Questão 2389951

• Banca: UFPA
• Órgão: UFPA
• Ano: 2017
• Provas: UFPA - 2017 - UFPA - Engenheiro - Área: Eletricidade
• Disciplina: Engenharia Elétrica
• Assuntos: Eletromagnetismo na Engenharia Elétrica; Materiais Elétricos

A utilização do silício na construção de equipamentos eletrônicos é fato conhecido na engenharia, porém ele é utilizado dopado com outros materiais, para otimizar sua aplicação. A alternativa que contém DOIS materiais usados no processo de dopagem é a seguinte:

• A. Fósforo, índio, ferro, alumínio.
• B. Fósforo, ferro, alumínio, prata.
• C. Ouro, índio, alumínio, ferro.
• D. Ouro, fósforo, alumínio, ferro.
• E. Alumínio, ouro, ferro, chumbo.

Gabarito: A

Comentários

• Dopagem eletrônica ou simplemente dopagem é a adição de impurezas químicas elementares (usualmente índio ou fósforo) em elemento químico semicondutor puro (germânio ou silício ), com a finalidade de dotá-los de propriedades de semicondução controlada específica (presença majoritária de portadores de carga ou tipo P, as lacunas, ou tipo N, os elétrons, respectivamente para as adições de índio e de fósforo), para aplicação em dispositivos eletrônicos elementares de circuitos.