Questão 715756

• Banca: UECE-CEV
• Órgão: UECE
• Ano: 2011
• Provas: UECE-CEV - 2011 - UECE - Vestibular - Física e Química
• Disciplina: Química
• Assuntos: Fórmulas, Balanceamento e Leis ponderais das reações químicas; Grandezas: massa, volume, mol, massa molar, constante de Avogadro e Estequiometria.; Representação das transformações químicas; Transformações Químicas; Transformações Químicas: elementos químicos, tabela periódica e reações químicas

Os novos vales do silício estão localizados nos seguintes países que são considerados polos de inovação: Chile (em Santiago: montanha do silício), Israel (em Tel Aviv: deserto do sílicio), Índia (Bangalore: planalto do silício) e em Taiwan (Hsinchu: ilha do silício). O silício, que é o segundo elemento mais abundante na Terra, é utilizado na preparação de silicones, na indústria cerâmica e, por ser um material semicondutor, desperta interesse na indústria eletrônica e microeletrônica, como material básico para a produção de transistores para chips, células solares e em diversas variedades de circuitos eletrônicos. Um dos métodos de se obter o silício é através do triclorosilano, gás que se decompõe depositando silício adicional em uma barra segundo a reação: HSiCl₃ → Si+HCl+SiCl₄. Como os coeficientes dessa equação química não estão ajustados, ajuste-os e determine a quantidade de silício depositado quando se usa 27,1 t de HSiCl₃

• A. 28,0 t.
• B. 5,6 t.
• C. 2,8 t.
• D. 1,4 t.

Gabarito: C